高純輸送?靜穩致遠｜日本東振 TVP 系列偏心泵，半導體流體輸送理想之選

發布日期：2026-06-08      瀏覽次數：69

在半導體制造邁向先進制程的關鍵階段，流體輸送設備的性能直接決定晶圓良率、生產穩定性與運營成本。日本東振（TOHSHIN）TVP 系列偏心泵（磁力驅動葉片泵），憑借無泄漏、超1靜音、低脈動、高潔凈、長壽命的核心優勢，精準契合半導體行業嚴苛工況，成為晶圓清洗、光刻涂布、蝕刻沉積、精密冷卻等核心工序的優選流體設備，為高純制程保駕護航。

 

一、磁力耦合無密封，零泄漏杜絕污染，守護高純制程底線

半導體工藝涉及超純水、蝕刻液、光刻膠、氟系惰性溶劑等高純及腐蝕性介質，傳統機械密封泵易因密封件磨損泄漏，引發金屬離子污染、顆粒雜質侵入、化學品揮發等風險，直接導致晶圓報廢與制程中斷。
 
東振 TVP 系列采用全封閉磁力耦合驅動設計，徹1底摒棄機械密封結構：電機外磁鋼穿透隔離罩，驅動泵腔內磁鋼與轉子同步旋轉，泵腔與驅動端物理隔離，從根源實現零泄漏。

• 流道采用 316L 不銹鋼材質（可選陶瓷涂層），無金屬離子析出，兼容強酸、強堿、有機溶劑，滿足 Class 100（ISO Class 5）潔凈室標準；

• 零泄漏設計有效防止外界污染物反向侵入，杜絕晶圓表面顆粒吸附與電路腐蝕，保障光刻、清洗等精密工序良品率；

• 適配易燃、有毒高純介質，規避化學品揮發安全隱患，契合半導體廠 EHS 管理要求。

二、靜音低振適配潔凈室，助力精密制程穩定運行

半導體潔凈室對噪音、振動控制要求極1致嚴苛：高噪音干擾精密儀器信號傳輸，振動易導致晶圓定位偏差、光刻膠涂布不均，直接影響制程精度與芯片性能。
 
東振偏心泵依托偏心葉片結構與磁力驅動技術，實現圖書館級靜音 + 微振動運行，完1美適配潔凈室精密環境：

• 運行噪音低至40dB（TVP?S 型），遠低于傳統齒輪泵（60–75dB）與隔膜泵（65–80dB），不干擾精密儀器正常作業；

• 運行振動＜0.1mm，無脈動沖擊，避免對光刻設備、檢測儀器、光學平臺的精密測量造成干擾，保障晶圓加工一致性；

• 緊湊輕量化設計（TVP?S 僅 3kg），安裝無方向限制，適配半導體設備狹小集成空間，便于生產線布局優化。

三、超低脈動精準輸送，保障工藝均勻性與穩定性

半導體晶圓清洗、光刻膠涂布、冷卻循環等工序，對流量恒定、壓力穩定要求極1高。脈動過大會導致清洗不均、涂布厚度偏差、冷卻溫度波動，直接影響芯片良率與性能。
 
作為回轉式容積泵，東振偏心泵通過偏心葉片旋轉形成可變容積，配合精密流道設計，實現流量脈動＜±3%，遠優于傳統泵型：

• 恒定流量輸出，保障晶圓清洗均勻性，避免局部清洗殘留或過腐蝕，提升清洗良率；

• 低脈動壓力穩定，適配光刻膠涂布系統，確保膠層厚度均勻，減少光刻缺陷，保障圖案精度；

• 流量覆蓋 1.0–42.0 L/min，壓力 0.25–1.00 MPa，全面覆蓋半導體從小流量精密循環到大流量工藝輸送的全場景需求。

四、高潔凈長壽命，降低維護成本，適配 24/7 連續生產

半導體工廠全年無休連續生產，設備可靠性與維護周期直接影響產能與運營成本。傳統泵型密封件、膜片易損，需頻繁更換，不僅增加維護成本，還易因停機造成重大產能損失。
 
東振 TVP 系列偏心泵專為長期穩定運行設計，完1美適配半導體連續生產需求：

• 無易損密封件，設計壽命長達8000 小時，免維護周期長，大幅降低備件采購與人工維護成本；

• 內部流道光滑無1死角，低顆粒釋放（＜10μm），減少介質殘留與積垢，適配 CIP 原位清洗，滿足半導體潔凈要求；

• 材質適配性強：316L 不銹鋼、青銅、陶瓷涂層可選，兼容超純水、化學品、冷卻劑等多種介質，減少設備型號冗余；

• 支持 AC/DC、單相 / 三相、防爆電機定制，適配半導體廠不同供電與防爆區域需求。

五、全工序精準適配，半導體核心場景高效賦能

• 晶圓清洗設備：TVP?M/L 不銹鋼版輸送超純水、清洗液，低脈動保障清洗均勻性，無泄漏避免污染；

• 光刻 / 涂布系統：TVP?S 靜音型輸送光刻膠、顯影液，精準流量控制，低振動保障涂布精度；

• 蝕刻 / 沉積工藝：耐腐蝕材質適配蝕刻液、特種氣體輸送，高潔凈防止金屬離子污染晶圓；

• 精密冷卻循環：40dB 超1靜音運行，低脈動穩定溫控，適配激光器、檢測設備、光學平臺冷卻系統；

• 化學品輸送 / 回收：無泄漏設計適配高純 / 腐蝕性化學品，長壽命減少停機，保障連續生產。

六、總結：東振偏心泵，先進制程可靠流體伙伴

從零泄漏高潔凈守護制程底線，到超1靜音低振動適配精密環境；從超低脈動精準輸送保障工藝穩定，到長壽命免維護降低運營成本，日本東振 TVP 系列偏心泵精準解決半導體行業流體輸送核心痛點。
 
作為半導體先進制程的可靠流體伙伴，東振偏心泵以安全、穩定、高效、潔凈的綜合優勢，助力半導體企業提升晶圓良率、提高生產效率、優化運營成本，在先進制程競爭中筑牢核心優勢。